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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【TN 无线电电子学、电信技术】 分类索引
  • 边缘计算技术及应用
    • 边缘计算技术及应用
    • 何宗要,姚东永主编/2026-8-1/机械工业出版社
    • 本书采用“基础-进阶-提高”三阶递进式架构,通过真实工业案例,系统讲解边缘计算技术和应用。基础篇(项目1、项目2)重点讲解工业现场层设备接入技术,包括PLC、传感器等工业设备通过边缘网关实现数据采集与协议转换的方法;进阶篇(项目3、项目4)深入边缘计算的核心能力,通过Python脚本开发,实现数据聚合、规则告警等本地化

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      定价:¥69  ISBN:9787111812326
  • AI影视工作流:短剧、漫剧与微电影从制作到变现
    • AI影视工作流:短剧、漫剧与微电影从制作到变现
    • 李宇欣主编/2026-8-1/化学工业出版社
    • 全书涵盖电影和短剧漫剧,题材覆盖儿童卡通剧、古装真人剧、玄幻/神魔剧、现代真人剧、解说剧等多种类型,并通过完整实战案例,手把手教会读者掌握AI视频制作的每一个环节。本书不仅深入剖析即梦、可灵、GPTImage2在资产设计、运镜控制、角色与场景一致性、数字人应用等方面的核心技术,还结合剪映剪辑、内容审核要点、各平台上线规

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      定价:¥98  ISBN:9787122514813
  • 路由与交换技术
    • 路由与交换技术
    • 冯志祥等主编/2026-8-1/高等教育出版社
    • 本书按照项目导向、任务驱动、技能引导方式组织内容,并且融合职业认证要求和岗位标准,共4个项目,主要内容包括:配置管理网络设备、配置管理园区交换式网络、配置管理企业网络互联、配置管理网络接入与广域网链路。同时,本书配套学习手册,有助于学习过程中的知识积累,提高教材应用的灵活性。

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      定价:¥56  ISBN:9787040678772
  • Multisim 14 电路仿真实训教程
    • Multisim 14 电路仿真实训教程
    • 荀大勇主编/2026-8-1/电子工业出版社
    • 本教材以Multisim14为核心工具,构建“电工技术—模拟电路—数字电路—专业电路”四大模块、梯度递进的仿真实训体系,总揽电路分析与设计全流程,配套教学视频、授课课件及仿真源码,全方位适配教与学需求。全书遵循“实操导向、启发性探究”原则,每个实训任务均明确目标、细化步骤,配套仿真截图与设问引导;授课课件可直接用于课堂

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      定价:¥45  ISBN:9787121533358
  • 芯片侧信道攻击与防御
    • 芯片侧信道攻击与防御
    • 乌力吉,马向亮,张向民著/2026-8-1/电子工业出版社
    • 本书共10章,第1章介绍了侧信道攻击基本原理。第2章介绍了密码算法硬件实现与安全处理器。第3章和第4章分别介绍了侧信道攻击与防御的两个重要方法,即故障攻击与防御和能量分析攻击与防御。第5章介绍了侧信道分析与人工智能。第6章介绍了本团队自主研发的侧信道分析设备。第7章介绍了实用安全芯片破解。第8章介绍了硬件木马的侧信道检

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      定价:¥69.9  ISBN:9787121533693
  • 电子设计基础与创新实践
    • 电子设计基础与创新实践
    • 成凤敏等编著/2026-8-1/北京航空航天大学出版社
    • 全书共6章,依次讲解Multisim与LabVIEW软件应用、基本单元电路、综合性应用电路、创新性应用电路及电路板焊接技术,形成层次清晰的教学链条。

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      定价:¥79  ISBN:9787512451506
  • 光助电控溴离子交换技术
    • 光助电控溴离子交换技术
    • 王洁著/2026-8-1/化学工业出版社
    • 本书围绕光助电控技术在溴离子分离回收中的应用展开系统研究,聚焦复杂体系中溴离子高效分离的核心需求,构建光-电协同驱动的分离回收新范式。全书以技术原理为基础,深入探讨光响应材料溴氧铋的设计、电极结构优化、外场调控策略等关键内容,解析光生载流子与电场协同作用下溴离子的迁移、富集机制,阐明材料结构、工艺参数与分离效率、选择性

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      定价:¥98  ISBN:9787122513922
  • 新型相控阵雷达维修决策方法与应用
    • 新型相控阵雷达维修决策方法与应用
    • 蒋伟著/2026-8-1/国防工业出版社
    • 本书以相控阵雷达组件为研究对象,围绕提高组件的保障能力以及降低在维修保障过程中产生的寿命周期费用这一核心内容,运用维修建模理论、建模方法以及对应的优化求解算法,建立相控阵雷达组件的维修决策模型,并对对维修策略进行性能评估,为提高相控阵雷达的战备完好性能力提供理论支撑。

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      定价:¥58  ISBN:9787118143966
  • 微光刻技术——科学与工艺(第三版)
    • 微光刻技术——科学与工艺(第三版)
    • (美)布鲁斯·W.史密斯(Bruce W. Smith),(日)铃木和明(Kazuaki Suzuki)主编/2026-8-1/电子工业出版社
    • 本书全面系统地阐述了半导体制造的核心工艺——光刻技术的原理、材料、设备与工艺集成。第三版在前两版基础上进行了大幅更新,新增了浸没式光刻、极紫外光刻、多重图形化、计算光刻以及纳米压印等前沿内容,反映了自21世纪以来微纳加工技术的飞速发展。全书由多位国际顶尖专家撰写,涵盖光学成像理论、光刻胶化学、掩模设计、分辨率增强技术、

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      定价:¥298  ISBN:9787121532368
  • 模型和数据双驱动的红外弱小目标检测与跟踪技术
    • 模型和数据双驱动的红外弱小目标检测与跟踪技术
    • 李大威,蔺素珍著/2026-8-1/电子工业出版社
    • 本书可作为研究生的教材或参考书。本书主要研究红外弱小目标检测与跟踪技术,包括基于区域双邻域显著图的目标检测、基于形态学多特征信息关联的目标检测、基于多尺度上下文信息关联的目标检测、基于特征补偿的目标检测、基于特征融合的目标检测、基于图像自适应变换差分增强的目标检测、基于时空信息关联的目标检测、基于多特征关联的单目标跟踪

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      定价:¥79  ISBN:9787121532320