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集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。《半

本书汇集了辽宁省通信学会2022年优秀论文一等奖作品48篇，作者涵盖了辽宁省内通信行业的大学、院所及企事业单位，涉及通信行业的各个领域，所收录论文作品既有理论探索，也有科研实践，以实际应用为主，对通信行业从业人员有非常好的指导意义。同时，该论文集也是对辽宁省通信技术行业发展的总结性论述，对辽宁省未来通信行业的发展规划具