本书主要分为七章，按照应用于半导体薄膜制造的主要技术分类来安排：真空技术基础，薄膜生长原理，真空蒸发，溅射法，化学气相沉积，液相外延及其他先进薄膜制备方法，薄膜的测试与表征。同时本书还深入探讨了电子薄膜制备领域的核心原理和技术，包括真空技术、薄膜生长原理、真空蒸发、溅射法、化学气相沉积、液相外延、以及薄膜的测试与表征。每一章都提供了深入的理论知识，并结合实际案例和实验操作步骤，以帮助读者理解和应用所学内容

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1985-1994,华中科技大学本硕博；1994-1996，北京大学博士后；1999-2002，香港中文大学博士后；2002-2003，上海交通大学教授，2003-今，湖北大学教授（期间2010.4-10，剑桥大学高访；2016.1-3，法国国家科学研究院高访；2013.7-9芬兰奥托大学高访）主讲课程：薄膜物理与技术（2003.9.-今），大学物理、大学物理实验（1996.9.-1999.3.）,电子科学与技术前沿讲座（2004.9-今），微电子科学与工程导论（2010.9.-2015.6.）。第1获奖人获湖北省自然科学二等奖3项、湖北省青年科技奖、中国电子学会实践教学成果二等奖、湖北大学教学成果一等奖，指导本科生获挑战杯全国二、三等奖和互联网+全国三等奖。湖北江城实验室副主任，神经形态器件与类脑芯片湖北省工程研究中心主任，中国仪表功能材料学会副理事长

第1章 真空技术基础 1.1真空技术基本知识 1.2真空泵 1.3真空计 第2章 薄膜生长原理 2.1 薄膜生长过程 2.2薄膜的形核理论 2.3薄膜生长过程 2.4薄膜结构 第3章 真空蒸发 3.1热蒸发原理 3.2真空蒸发特性 3.3真空蒸发技术 第4章 溅射法 4.1气体放电原理 4.2物质溅射现象 4.3溅射沉积技术 第5章 化学气相沉积 5.1 化学气相沉积的化学原理 5.2 气相输运的流体特性 5.3化学气相沉积技术 第6章 液相外延及其他先进薄膜制备方法 6.1液相外延 6.2 原子层沉积 6.3 脉冲激光沉积 6.4 分子束外延 6.5 其他薄膜制备方法 第7章 薄膜的测试与表征 7.1扫描电子显微镜 7.2透射电子显微镜 7.3 X射线光电子能谱仪 7.4 X射线衍射仪 7.5其他测试表征方法