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试验设计方法在印制电路制造中的应用

试验设计方法在印制电路制造中的应用

定  价:68 元

  • 作者:陈苑明主编
  • 出版时间:2024/3/1
  • ISBN:9787577009667
  • 出 版 社:电子科技大学出版社
  • 中图法分类:TN41 
  • 页码:269页
  • 纸张:
  • 版次:1
  • 开本:26cm
  • 商品库位:
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试验设计方法是可实现经济地、科学地安排试验的一项通用技术,是当代科技和工程技术人员必须掌握的技术方法。本书从试验设计的理论知识、设计过程、分析软件使用等多方面系统地阐述试验设计在印制电路制造中的应用。本书共6章,第1章介绍正交试验设计在印制电路等离子清洗优化的应用;第2章介绍正交试验方差分析法在印制电路激光切割优化的应用;第3章介绍因子设计在印制电路机械钻孔优化的应用;第4章介绍单纯型优化法在印制电路激光钻孔优化的应用;第5章介绍均匀设计法在印制电路层间压合优化的应用;第6章介绍回归分析法在陶瓷材料制造优化的应用。本书可作为印制电路专业方向的师生使用,又可作为科技和工程技术人员的参考用书。
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