本书系统地、较全面地论述了到目前各种红外光学材料的光学、热学和力学性质（参数），各种红外光学材料的制备方法及工艺，以及工艺条件对各种性能产生影响。同时，对应用中所必须要考虑的增透膜和保护膜也做了论述，CVD金刚石是理想的窗口材料，对金刚石的性质、CVD金刚石的合成机理、制备方法以及后续加工方法也做了介绍。
第1章 红外光学材料基础
1.1 引言
1.2 大气窗口
1.3 黑体辐射——普朗克辐射定律
1.4 波动方程和光学常数
1.5 反射和折射
1.6 薄膜光学
1.7 折射指数和色散
1.8 在各向异性介质中光的传播——双折射
1.9 透明介质中光的散射
1.10 透明介质热辐射的发射率
1.11 断裂强度和断裂韧性
1.12 断裂强度的统计分析
1.13 抗热冲击品质因子
1.13.1 压力诱导应力 第1章 红外光学材料基础
1.1 引言
1.2 大气窗口
1.3 黑体辐射——普朗克辐射定律
1.4 波动方程和光学常数
1.5 反射和折射
1.6 薄膜光学
1.7 折射指数和色散
1.8 在各向异性介质中光的传播——双折射
1.9 透明介质中光的散射
1.10 透明介质热辐射的发射率
1.11 断裂强度和断裂韧性
1.12 断裂强度的统计分析
1.13 抗热冲击品质因子
1.13.1 压力诱导应力
1.13.2 热诱导应力
1.13.3 品质因子
1.14 激光窗口的光畸变
参考文献
第2章 红外光学材料的光学性质
2.1 引言
2.2 反射
2.3 透过率和吸收系数及与温度的关系
2.3.1 概述
2.3.2 红外光学材料的透射波段
2.3.3 Ge和Si
2.3.4 GaAs和GaP
2.3.5 蓝宝石和氧化铝多晶.
2.3.6 氧化物多晶光学陶瓷--MgAl204、MgO、Y203、石英和YAG
2.3.7 ZnS和ZnSe
2.3.8 CVDSiC和CVDSi2N4
2.3.9 MgF2和CaF2
2.3.1 0硫系化合物玻璃
2.4 折射指数、色散和折射指数与温度的关系
2.4.1 Ge和Si
2.4.2 GaAs和GaP
2.4.3 氧化物光学陶瓷
2.4.4 CVDZnS和CVDZnSe
2.4.5 β—SiC和0α--Si3N4
2.4.6 MgF2和CaF2
2.4.7 硫系玻璃
2.5 散射
2.6 发射率
2.7 红外光学材料的微波透射性质
参考文献
第3章 红外光学材料的力学与热学性质
3.1 引言
3.2 红外光学材料力学和热学性质
3.2.1 弹性模量E和泊松比v
3.2.2 热导率
3.2.3 热膨胀系数
3.3 红外光学材料的硬度及其影响因素
3.3.1 硬度测试
3.3.2 温度对硬度的影响
3.3.3 晶粒尺寸的影响
3.3.4 压力的影响.
3.3.5 形成固溶体改善硬度
3.3.6 化学键对硬度的影响
3.3.7 硬度和材料其他参数的关系
3.4 红外光学材料断裂强度及其影响因素
3.4.1 常用的强度测试方法
3.4.2 陶瓷材料强度的影响因素
3.5 蓝宝石单晶的高温强度
3.5.1 温度对蓝宝石强度的影响
3.5.2 蓝宝石高温强度的改善
3.6 红外光学材料的断裂韧性
3.7 红外光学材料抗热冲击品质因子
3.8 固体粒子对红外光学元件表面的冲击损伤
3.9 红外光学元件表面的雨蚀
3.10 激光窗口用光学材料
参考文献
第4章 红外光学材料的制备方法和工艺
4.1 引言
4.2 热压工艺
4.2.1 热压的工艺原理
4.2.2 ZnS和.ZnSe的热压
4.2.3 热压制备其他光学材料
4.3 烧结、热压烧结和热等静压法
4.3.1 烧结、热等静压制备ZnS
4.3.2 尖晶石(MgAl204)的制备
4.3.3 氮氧化铝(A10N)晶体
4.4纳米和亚微米氧化物透明陶瓷的制备
4.4.1 透明A1203哆晶陶瓷
4.4.2 Nd：YAG
4.4.3 纳米MgO和Y203
4.5 熔体定向凝固法
4.5.1 定向凝固的热流及温度分布
4.5.2 热交换法(}tEM)
4.5.3 梯度凝固法(GSM)
4.5.4 垂直梯度凝固法(VGF)
4.5.5 泡生法(kyropoulos法)
4.5.6 水平法生长蓝宝石
4.6 导模法
4.6.1 导模法生长原理
4.6.2 导模法工艺
4.7 直拉生长法((~'zochralski法)
4.7.1 熔体生长的基本原理
4.7.2 锗和硅单晶生长
4.7.3 Ⅲ一V族化合物半导体GaAs和GaP
参考文献
第5章 化学气相沉积制备红外光学材料
5.1 引言
5.2 化学气相沉积基础
5.2.1 概述
5.2.2 温度的影响
5.2.3 反应剂分子向衬底表面的传输
5.2.4 压力的影响
5.2.5 反应剂气体流动状态
5.3 CVDZnS和CVDZnSe
5.4 CVDB—SiC
5.5 CVDGaP
5.6 CVDSi2N4
参考文献
第6章 金刚石光学材料
6.1 概述
6.2 CVD金刚石性质
6.2.1 CVD金刚石的光学性能
6.2.2 CVD金刚石的热学性质
6.2.3 CVD金刚石的力学性质
6.2.4 金刚石的氧化和保护
6.3 CVD金刚石生长机理
6.3.1 表面激活
6.3.2 生长机制
6.3.3 缺陷的产生
6.3.4 原子H的输送
6.4 CVD金刚石生长工艺
6.4.1 M’WCVD金刚石合成
6.4.2 直流电弧放电等离子体合成金刚石
6.4.3 燃烧火焰喷射合成金刚石
6.5 金刚石涂层
6.5.1 锗上的金刚石涂层
6.5.2 ZnS上的金刚石膜.
6.6 CVD金刚石表面加工
6.6.1 激光束平滑技术
6.6.2 热金属研磨金刚石表面的热化学抛光技术
6.6.3 等离子体腐蚀抛光
参考文献
第7章 增透膜和保护膜
7.1引言
7.2 红外光学材料的宽带增透膜
7.3 薄膜制备方法
7.4 表面凸起结构的减反射
7.5 光学元件表面保护
7.6 类金刚石碳(DLC)膜
7.7 GeC膜
7.7.1 GeC膜的制备
7.7.2 GeC膜的光学性质
7.7.3 GeC膜的力学性能
7.8 BP和GaP膜.
7.8.1 BP膜的制备
7.8.2 BP膜的结构
7.8.3 BP膜的光学性质
7.8.4 BP膜的力学性质
7.9 雨蚀保护
7.10 沙蚀保护
7.11 其他硬质保护膜
7.12 透明导电膜
7.12.1 金属网格滤波器
7.12.2 导电衬底和导电膜
7.12.3 导电网格设计
参考文献
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