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虚拟世界商标保护法律制度研究

虚拟世界商标保护法律制度研究

定  价:79 元

  • 作者:胡光著
  • 出版时间:2026/1/1
  • ISBN:9787524422440
  • 出 版 社:法律出版社
  • 中图法分类:D913.04 
  • 页码:324
  • 纸张:
  • 版次:1
  • 开本:23cm
  • 商品库位:
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读者对象:知识产权研究者、商标管理人员、元宇宙/游戏行业法务

本书从技术发展对虚拟世界中商标行为的影响,虚拟世界中商标的功能变化,新型商标形态的属性,商标管理制度创新以及商标侵权认定和抗辩标准等几个方面提出了独到的见解以及针对性的解决方案,丰富了有关虚拟世界对商标制度创新影响这一领域的稀缺学术知识,能够激发读者对知识产权尤其是商标规则理论认知的批判意识和研究热情。同时,为商标所有人设计将虚拟世界中的商标转化为价值的有效路径,为商标管理者提供对虚拟商品、NFT等进行商标管理的规范方法。
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