本专著围绕高性能抗蚀干膜的自主研发与技术突破展开，系统阐述其核心原理、配方设计、工艺调控及关键创新技术。全书内容包括抗蚀干膜的定义、分类、产业格局、原材料体系与应用场景，光聚合体系搭建、自由基固化配方优化、与印制电路板制造工艺的参数适配，以及自由基/阳离子双固化抗蚀干膜等核心研究内容。