本书首先对低辐射薄膜的研究现状、存在问题、制备方法和表征手段等方面进行论述，然后分别以化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2(FTO)低辐射薄膜和磁控溅射法制备的Ag基低辐射薄膜为研究对象，探讨了低辐射薄膜的光电性能及导电机理，最后指出了低辐射薄膜的发展方向。本书深入研究低辐射薄膜在后期高温处理过程中表面结构和各种成分的发展和演化，了解其光电性能的温度效应和时间效应，是揭示其性能变化机理的基础和前提，为一些理论推测提供一定的数据支撑，同时对于优化膜系设计、改善镀膜工艺和钢化工艺具有十分重要的价值，进一步丰富镀膜玻璃的理论知识。