本书基本结构及电子倍增的物理机理，阐明电子在微通道内壁的二次发射、倍增过程及影响因素，为后续研究奠定理论基础。在这个理论基础上，深入分析电子倍增特性的关键参数(如增益系数、噪声因子、脉冲分辨率等)的测试方法与调控机制，揭示材料特性、通道尺寸等对倍增性能的影响规律。接着聚焦制备工艺环节，详细探讨基板材料选择、通道蚀刻、内壁镀膜等关键工艺的技术要点与优化路径，对比不同工艺方案对微通道板性能的影响。本书重点研究高增益、低噪声微通道板的制备工艺创新及电子倍增特性的稳定性提升策略，解决传统工艺中存在的性能波动问题。最后总结微通道板在微光探测、粒子物理等领域的应用前景及未来发展趋势。