本书共分8章，内容包括：绪论，制备CuO、Cu?O薄膜的设备及样品表征方法、磁控溅射方法制备CuO薄膜及其性能研究、磁控溅射制备Cu?O薄膜及其性能优化、退火处理对CuO、Cu?O薄膜物理性能的影响、CuO薄膜材料相关的光电器件研究、基于Cu?O材料的光电器件研究、结论。