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基于已公开发表的文献以及北方华创物理气相沉积工艺团队二十多年来对物理气相沉积工艺研究的经验和结论，本书系统地介绍了物理气相沉积工艺及设备的问题和解决方案，内容包括集成电路产业简介、等离子体的基本概念、物理气相沉积技术的发展与概述、逻辑芯片制造中的物理气相沉积工艺、封装技术中的物理气相沉积工艺、物理气相沉积设备、磁控技术

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