高分辨电子束光刻技术及其应用国防工业出版社当当图书书籍_段辉高_9787118142563

电子束光刻具有极高的加工精度及无掩模直写的灵活性，在高精度模板制备、微纳器件的原型开发及小批量定制、微纳米科技的基础研究中具有不可替代的作用。本书从装备、工艺、材料、应用四个方面向读者系统地介绍了电子束光刻技术及相关应用，引用了很多国内外科研团队及作者团队开发的微纳加工工艺及器件应用实例，希望能对读者有所启发。

本书可供高等院校的高年级本科生、研究生和青年教师，以及器件设计研发和微纳制造工程师参考。

前言

微纳制造是当代科技发展的前沿领域，是微纳米科技研究与应用的共性基础，在信息技术、生物医疗、航空航天等领域具有重要研究价值和广阔应用前景，同时在拓展人类研究尺度、发明全新功能材料及研发新概念元器件方面具有不可替代的作用。随着集成电路及光电子等领域的发展，对功能结构特征尺寸的要求不断微缩，精度要求不断提高，其制造所需的光刻技术和成套工艺也在不断更新迭代。

电子束光刻具有极高的加工精度及无掩模直写的灵活性，在高精度模板制备、微纳器件的原型开发及小批量定制、微纳米科技的基础研究中具有不可替代的作用。目前，电子束光刻技术已经广泛应用于国内外集成电路、微纳光学等的产业界与科研界，助力高精度掩模的制备和高性能器件的研发。但目前，国内电子束光刻领域还缺少专门介绍该领域的入门书籍，绝大部分微纳制造相关的书籍都只把电子束光刻作为单个章节进行简单或零散的介绍，而没有对其工作原理、成套工艺及应用进行系统性的介绍。

为填补国内电子束光刻领域科普书籍的空白，作者及其团队在国防工业出版社的鼓励下，经过多年持续的努力，完成了本书的撰写。本书基于作者及其团队近二十年从事电子束光刻相关研究的经验，通过典型的电子束光刻工艺案例以及作者团队公开发表的成果，从装备、工艺、材料、应用四个方面向读者系统地介绍了电子束光刻技术及相关应用。希望通过本书能够帮助有计划或正在从事电子束光刻相关微纳加工的研究人员搭建较为全面的电子束光刻技术基础知识框架，从而更好地理解和使用电子束光刻设备，实现各类高分辨微纳加工。由于作者研究经历与知识面的局限性，本书对电子束光刻的介绍仅局限于高斯束电子束光刻，该类设备主要用于小批量打样及科研领域。对于产业界目前主流使用的高产能变形束和多束电子束光刻，由于目前公开的技术细节较少，本书未进行详细的介绍。此外，电子束光刻相关的装备、工艺及应用近些年发展十分迅速，本书撰写的过程中，国内外又有许多新进展，若有相关内容缺失，请读者们见谅。限于全书及参考文献的篇幅要求，许多同行的优秀研究成果未能得到全面介绍及引用，特致以歉意。

本书能够顺利完成，作者团队衷心感谢中国科学院电工研究所的韩立研究员，是他引领第一作者段辉高进入电子束光刻研究领域。同时感谢麻省理工学院的 Karl K. Berggren 教授，段辉高在他的实验室开展科研期间，积累了丰富的电子束光刻知识与工艺经验。另外，感谢团队的张冠华教授、胡跃强教授、周剑教授、冯波副教授在写作期间给予的帮助。特别要感谢为本书提供素材及帮助校稿的团队毕业生及在读研究生，包括但不限于李志琴、向泉、郑梦洁、张轼、王雅思、刘卿、舒志文、郑江坡、陈哲、张定红、罗栩豪、曾沛、陈雷、刘成志、马东旭、周宇霆、姜玉婷、欧香念、庾点、王全、周宇、樊夫、李艺凡、纪志强、王清雨、宫诗萌、黄飞凤、文圣渝等。

最后，感谢国防工业出版社提供的支持让本书顺利出版，感谢牛旭东老师近年来对本书撰写所给予的持续鼓励与帮助。

作者团队于长沙

2026 年 3 月

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