本研究主要针对纳米压印光刻技术开展专利导航分析，通过技术和产业调研，梳理了技术与产业发展现状及未来趋势，旨在为科技与产业界提供参考。从宏观、中观与微观三个层面，系统分析了全球及中国在纳米压印光刻领域的创新态势、专利布局、关键技术竞争格局以及行业巨头的核心专利技术路线，识别我国在该领域相较于全球领先国家的差距与优势，为未来产业创新发展、技术路径选择、知识产权风险规避和高价值专利布局提供决策支撑。

朱月仙，中国科学院成都文献情报中心副研究员、高级知识产权师、中国科学院知识产权专员，拥有全国专利代理师、知识产权管理体系审核员等执业资格。长期从事知识产权战略情报研究和专利信息分析相关工作，具电子信息企业专利工程师从业经历。主持或参与完成支撑产业创新发展规划决策、研发创新路径选择、高价值专利培育等相关专利导航研究20余项，发表学术论文20余篇。 张娴，博士，研究员，博士生导师，首批全国专利信息师资人才。中国科学院成都文献情报中心知识产权研究中心（TISC中心、国家级专利导航服务基地）主任。长期从事知识产权战略情报、专利导航、专利情报分析方法与应用研究。主持国家、中国科学院、省部级项目20余项。主持完成知识产权分析研究报告数十项。发表学术论文90余篇，出版专著5部。 钟莹洁，中国科学院光电技术研究所工程师、高级知识产权师、中国科学院知识产权专员，拥有专利代理师和律师双重执业资格，具有十五年以上的知识产权从业经历，曾长期作为发明专利审查员、专利代理师、知识产权律师主导或参与各类知识产权实务工作，目前致力于光电领域的重大项目知识产权管理和高价值专利引导布局等工作。 王小玉，硕士研究生，毕业于中国科学技术信息研究所信息资源管理专业。现任职于中国科学院成都文献情报中心，助理研究员，持有国家知识产权局颁发的专利代理师资格证书，具备丰富的专利实务经验，长期致力于产业专利情报分析领域的研究与实践。

第1章 研究概况001 1.1 研究背景 / 001 1.2 主要研究内容和研究方法 / 002 1.3 数据来源和分析工具 / 006 1.4 查全查准率评估 / 006 第2章 纳米压印技术和产业发展现状与趋势008 2.1 产业概述 / 008 2.2 产业发展现状 / 011 2.3 产业发展趋势 / 021 2.4 技术发展现状 / 023 2.5 技术发展趋势 / 035 第3章 纳米压印光刻技术专利态势分析038 3.1 专利技术发展趋势分析 / 038 3.2 区域实力对比 / 040 3.3 专利申请人分析 / 042 3.4 专利技术主题分析 / 047 3.5 纳米压印光刻中国专利分析 / 050 第4章 纳米压印光刻领域模板分支专利布局分析057 4.1 申请趋势 / 057 4.2 区域实力对比 / 058 4.3 主要创新主体分析 / 062 4.4 专利技术分布 / 067 4.5 专利功效分析 / 070 4.6 多边专利分析 / 070 4.7 高被引专利分析 / 073 第5章 纳米压印光刻领域设备及工艺分支专利布局分析076 5.1 申请趋势 / 076 5.2 区域实力对比 / 077 5.3 主要创新主体分析 / 080 5.4 专利技术分布 / 086 5.5 专利功效分析 / 090 5.6 多边专利分析 / 091 5.7 高被引专利分析 / 093 第6章 纳米压印光刻关键技术专利分析096 6.1 纳米压印光刻模板结构技术 / 096 6.2 纳米压印光刻对准调平技术 / 111 6.3 纳米压印光刻缺陷控制技术 / 131 第7章 佳能公司专利及合作模式研究144 7.1 公司概况 / 144 7.2 专利申请趋势 / 145 7.3 专利市场布局 / 147 7.4 专利技术布局特点 / 148 7.5 活跃专利分析 / 152 7.6 核心专利分析 / 154 7.7 合作模式研究 / 154 第8章 结论及建议157 8.1 分析结论 / 157 8.2 产业发展和专利布局建议 / 160 附录164 附录1 技术分解表 / 164 附录2 相关事项约定 / 168 附录3 检索策略 / 178