全书共六章。第一章绪论阐述近场流场测试的意义，分析传统纹影法的局限性及背景纹影法的优势与挑战。第二章介绍传统背景纹影法的光路模型与解算方法，包括偏折角与折射率关系以及Abel、Radon逆变换算法。第三章提出基于角动量守恒的偏折角精确解析方法，提升近场温度场重构精度。第四章探讨多物理场同步重构技术，结合三维光线追迹与PIV-光流算法，实现密度、速度等多参数测量。第五章针对欠采样场景，提出压缩感知重构模型，优化非轴对称折射率场反演。第六章介绍干涉条纹纹影与光场成像纹影技术，通过仿真与实验验证其高精度。