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氮化镓凹槽阳极器件理论与应用

氮化镓凹槽阳极器件理论与应用

定  价:188 元

  • 作者:张进成
  • 出版时间:2024/12/1
  • ISBN:9787030803894
  • 出 版 社:科学出版社
  • 中图法分类:TN315 
  • 页码:
  • 纸张:胶版纸
  • 版次:
  • 开本:16开
  • 商品库位:
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氮化镓作为宽禁带半导体的典型代表之一,在电学、光学、力学、抗辐照等方面均表现优异。本书以作者近年来的研究成果为基础,结合国际研究进展,系统介绍了宽禁带氮化镓凹槽阳极结构的物理特性和实现方法,重点讲述了氮化镓凹槽阳极二极管器件。全书共分为8章,内容包括绪论、凹槽阳极GaN肖特基结器件制备工艺、位错免疫的凹槽阳极GaN肖特基结器件结构与特性、凹槽阳极GaN肖特基结开启电压调控方法、面向不同应用的凹槽阳极GaN肖特基二极管、凹槽阳极结构肖特基漏高电子迁移率晶体管、氮化镓p沟道凹槽栅场效应晶体管以及大功率GaN二极管整流和限幅电路。
本书可供微电子和半导体器件领域的研究生与科研人员阅读及参考。

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