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半导体工艺原理

半导体工艺原理

定　　价：198 元

作者：悟弥今编著
出版时间：2025/3/1
ISBN：9787122472366
出版社：化学工业出版社

中图法分类：TN305
页码：387页
纸张：
版次：1
开本：24cm
商品库位：

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内容简介

。本册为《半导体工艺原理》，主要内容包括：锗和硅的化学制备与提纯、半导体材料的生长、硅片加工、氧化工艺、薄膜沉积工艺、外延工艺、光刻工艺概述、光刻设备、光刻材料、刻蚀工艺、掺杂工艺等。

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