本书共10章,第1章从随机过程分析和统计信号处理的角度,介绍噪声分析与检测基础;第2章针对脉冲噪声,介绍噪声模型、参数估计和非参数估计、相关程序;第3章介绍脉冲噪声非线性变换设计路线;第4章给出效能最大化的非线性变换函数设计实例;第5章进行更多问题的扩展讨论;第6章介绍相位噪声模型与莱斯相位分布;第7章分析相位噪声的数字特征计算与近似;第8章研究相位噪声下的信号检测;第9章考虑实用场景,分析相位域的弱信号检测;第10章分析相位域的局部最优检测。

本书对微纳制造技术的各个领域都给出了一个全面透彻的介绍,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增了制作纳米集成电路及其他半导体器件所需的各种基本单项工艺,还介绍了22nm的FinFET器件、氮化镓LED及薄膜太阳能电池、新型微流体器件的制造工艺流程。

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本书分为三部分:第一部分介绍光电振荡器的基本理论模型;第二部分介绍光电振荡器的关键技术,包括相位噪声抑制和测量、稳定性提升以及频率拓展等;第三部分介绍光电振荡器的功能拓展,包括宽带振荡、光脉冲产生和典型应用等。

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本书主要阐述鸿蒙操作系统（HarmonyOS）应用开发中全新的服务形式，原子化服务与服务卡片技术发展的必然趋势、运行的基本概念、原理与实战开发练习。本书总共分为三篇9章。第一篇基础原理篇为本书的第1到第3章，分别是概述、开发环境和快速入门、HarmonyOS应用基础与原理三章。第二篇成长提高篇为本书的第4到第6章，分别是常用模板开发练习，常用组件布局开发，业务功能与数据管理开发三章。第三篇案例实战篇为本书的第7章到第9章，分别是设计与UX相关、案例实战开发练习、编译测试与上架申请。本书创作主要使

本书主要介绍了光通信波段1560nm激光的非线性光学频率转换过程及应用，具体包括1560nm激光的非线性光学倍频过程（1560nm?780nm）、1560nm激光与倍频所得激光的非线性光学和频过程（1560nm+780nm?520nm）、所得和频激光经非线性光学参量振荡再次获得1560nm激光的过程（520nm?1560nm+780nm）及光通信波段激光在固体目标测速和面型方面的测量应用。本书介绍的非线性光学过程起始于1560nm半导体经典激光光源，经过一系列非线性光学频率演变，最终得到光学参量

本书介绍了两种典型电子产品汽车压力传感器和FPCB的制造工艺研究，分别对其关键制造工艺过程进行了多场多尺度建模分析，涵盖了分子动力学与有限元建模分析、工艺参数设计与优化、工艺性能实验验证。全书共10章，汇集了两种典型电子产品的关键工艺过程，包括铜-铜引线键合工艺中微观接触过程，六种典型材料引线键合工艺性能比较，汽车压力传感器灌封工艺中芯片残余应力分析，汽车压力传感器引线键合焊点的热循环失效分析，FPCB化锡工艺分子动力学研究，FPCB曝光工艺中光场分析，FPCB蚀刻工艺中蚀刻剂喷淋特性研究，FP

本书围绕语音识别的原理和应用讲解，理论结合实际，采用大量插图，辅以实例，力求深入浅出，让读者能较快地理解语音识别的基础理论和关键技术。为了帮助读者动手操作，提高实战技能，本书最后还结合Kaldi、ESPnet和WeNet等开源工具，介绍了具体的工程实践方法。

《干涉偏振成像技术》在介绍偏振探测的原理、各种偏振探测技术发展历程的基础上，着重介绍了萨瓦板型、马赫-曾德尔型、Sagnac型、偏振光栅型干涉偏振成像的工作原理、系统结构、波段拓展、解调方法、图像融合等工作，以及干涉光谱偏振成像技术及其光谱分辨率调谐。内容既包括了现有方法的简单介绍和分析，又有作者研究提出的新构型、新方案等研究工作，全面反映了干涉偏振成像的关键技术及发展状况，期望为干涉偏振成像的发展和应用提供技术支撑。