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点击返回 当前位置：首页 > 中图法 【 T 工业技术】 分类索引
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网络异常流量与行为分析
- 叶晓鸣, 乔少杰著/2023-1-1/机械工业出版社
本书首先系统总结了网络行为分析的相关研究背景和最新进展,重点针对“整体”“个体”“主机群”网络行为的研究现状进行了系统对比和总结,分析了网络行为特征和异常检测方法在检测率、运行效率、全面性和新性异常行为的识别能力等方面的不足。其次,针对这些不足,结合图论、特征工程、聚类、信息论等技术,以网络流量作为切入点,基于网络上所运载数据包呈现的网络行为属性,从宏观到微观,由整体到局部,系统研究了整体网络行为、网络个体行为和主机群行为,定义了更为有效的行为特征集、异常检测模型以及其并行化算法,并??ǹ??? -
定价：¥79 ISBN：9787111716938
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Java无难事
- 孙鑫著/2023-1-1/电子工业出版社
本书在内容安排上由浅入深,在知识讲解上深入浅出,为你节省脑细胞,让你轻松愉快地掌握Java知识。超值的同步学习视频并不是书中内容的重复,而是有力的补充和完善。本书还讲解了依赖注入(IoC/DI)容器、面向切面编程(AOP)、对象关系映射(ORM)框架的实现原理,同时还给出了并发编程领域中经常用到的线程池的实现。 -
定价：¥168 ISBN：9787121445545
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机器学习与算法应用
- 许桂秋, 汤海林, 武文斌主编/2023-1-1/电子工业出版社
本教材可以作为人工智能学科相关的机器学习技术的入门教材,目的不在于覆盖机器学习技术的所有知识点,而是介绍机器学习的常用算法及其应用,使读者了解机器学习的基本构成及不同场景下使用何种机器学习算法。为了增强实践效果,本教材引入了多个基础技术案例及综合实践案例,以帮助读者了解机器学习涉及的基本知识和技能。 -
定价：¥69.8 ISBN：9787121447099
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干涉仪测向原理、方法与应用
- 石荣著/2023-1-1/电子工业出版社
本书对干涉仪测向的技术原理与设计方法进行了全面的讲解,主要从干涉仪通道间信号的相位差测量及误差特性、干涉仪的单元天线及其模型近似、干涉仪的各种天线阵型、同频多信号同时进入干涉仪的效应等四个专题方向对干涉仪测向工程应用中面临的挑战与解决措施进行了透彻的分析,最后介绍了干涉仪测向在无源定位中的应用,以及无线电波干涉测量技术在雷达、通信、测控、导航、深空探测、电子攻击与防护等领域中的应用。 -
定价：¥108 ISBN：9787121442667
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移动互联网信息推荐技术研究
- 曹洪江等著/2023-1-1/电子工业出版社
本书以推荐系统理论为基础,以探究移动互联网环境下客户如何精确获取信息这一问题为出发点,研究面向客户个性化需求的移动互联网信息推荐技术,分别对移动用户的需求获取、情境感知推荐的原理和算法、社会化网络在信息推荐中的应用以及群组推荐方法进行做了较为全面、深入的研究和探讨。 -
定价：¥88 ISBN：9787121359828
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人工智能超密集移动通信系统
- 杨春刚著/2023-1-1/电子工业出版社
本书针对超密集移动通信系统中面临的网络接入点密集导致的资源调度不灵活、基站参考信号强度相似导致的网络选择难、传统网络切换技术导致的用户频繁切换,以及网络负载不均衡等诸多具体技术问题,基于传统算法,结合人工智能算法分别在端侧智能网络选择(第2章)、网侧智能资源调度(第3章)与端网协同智能切换(第4章)方面提出解决方案,实现用户体验的提升与资源的灵活管控。第5章“总论”,总结和展望了人工智能超密集移动通信系统的发展趋势。 -
定价：¥148 ISBN：9787121447778
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正则化对偶模型研究及在图像重构中的应用
- 李旭超著/2023-1-1/电子工业出版社
本书是在参考大量国内外论文和学术专著的基础上,结合作者多年来在能量泛函正则化模型这一领域的研究积累撰写而成的。本书阐述正则化对偶模型研究及在图像重构中的应用,主要内容包括迫近算子基本原理,正则化对偶模型基本原理,正则化原始-对偶模型基本原理,以及迫近算子、正则化对偶模型、正则化原始-对偶模型在图像重构中的应用。 -
定价：¥88 ISBN：9787121443541
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统计信号处理
- 罗忠涛著/2023-1-1/电子工业出版社
本书共10章,第1章从随机过程分析和统计信号处理的角度,介绍噪声分析与检测基础;第2章针对脉冲噪声,介绍噪声模型、参数估计和非参数估计、相关程序;第3章介绍脉冲噪声非线性变换设计路线;第4章给出效能最大化的非线性变换函数设计实例;第5章进行更多问题的扩展讨论;第6章介绍相位噪声模型与莱斯相位分布;第7章分析相位噪声的数字特征计算与近似;第8章研究相位噪声下的信号检测;第9章考虑实用场景,分析相位域的弱信号检测;第10章分析相位域的局部最优检测。 -
定价：¥99 ISBN：9787121445040
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微电子制造科学原理与工程技术
- (美) 斯蒂芬·A. 坎贝尔著/2023-1-1/电子工业出版社
本书对微纳制造技术的各个领域都给出了一个全面透彻的介绍,覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺,包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等。对每一种单项工艺,不仅介绍了它的物理和化学原理,还描述了用于集成电路制造的工艺设备。本书新增了制作纳米集成电路及其他半导体器件所需的各种基本单项工艺,还介绍了22nm的FinFET器件、氮化镓LED及薄膜太阳能电池、新型微流体器件的制造工艺流程。 -
定价：¥159 ISBN：9787121447464
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晶体硅太阳电池制造工艺原理
- 陈哲艮, 郑志东编著/2023-1-1/电子工业出版社
本书系统介绍了晶体硅太阳电池制造工艺原理,主要内容包括:绪论,太阳能用多晶硅生产工艺,太阳电池用硅晶体生长工艺,硅片多线切割及测试,硅片的清洗和制绒,掺杂制备pn结,硅片表面和边缘刻蚀,减反射膜/钝化膜制备与激光消融开孔,电极的丝网印刷、烧结和载流子注入退火,高转换效率晶体硅太阳电池,太阳电池组件,太阳电池及其组件的测试。本书附录介绍了太阳电池的光致衰减现象及桶理论,以及双面太阳电池/组件的光电性能测试。 -
定价：¥138 ISBN：9787121446689
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