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点击返回 当前位置:首页 > 中图法 【TN4 微电子学、集成电路(IC)】 分类索引
  • 高级HDL综合和SoC原型设计
    • 高级HDL综合和SoC原型设计
    • 魏东,孙健/2025-1-1/科学出版社
    • 本书通过实际案例介绍高级HDL综合与SoC原型设计,提供有关SoC和ASIC设计性能改进的实用信息。本书共16章,内容包括SoC设计、RTL设计指南、RTL设计和验证、处理器设计和架构设计、SoC设计中的总线和协议、存储器和存储控制器、DSP算法与视频处理、ASIC和FPGA综合、静态时序分析、SoC原型设计、SoC原

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      定价:¥78  ISBN:9787030801883
  • SoC设计基础教程——系统架构
    • SoC设计基础教程——系统架构
    • 张庆/2025-1-1/电子工业出版社
    • 本书是编著者结合多年的工程实践、培训经验及积累的资料,并借鉴国内外经典教材、文献和专业网站的文档等编著而成的。本书全面介绍了SoC的主要构成和设计环节。本书首先介绍了SoC的构成、设计流程和设计方法学,接着分章介绍了处理器子系统、存储子系统、总线、外设及接口子系统。本书注重基本概念、方法和技术的讨论,加强了对SoC设计

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      定价:¥98  ISBN:9787121489433
  • SoC设计基础教程——技术实现
    • SoC设计基础教程——技术实现
    • 张庆/2025-1-1/电子工业出版社
    • 本书是编著者结合多年的工程实践、培训经验及积累的资料,并借鉴国内外经典教材、文献和专业网站的文档等编著而成的。本书全面介绍了SoC的主要构成和设计环节。本书依次介绍了时钟及产生电路、复位及其同步化、跨时钟域设计、低功耗设计、标准库、设计约束和逻辑综合、验证、DFT。本书注重基本概念、方法和技术的讨论,加强了对SoC设计

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      定价:¥108  ISBN:9787121489020
  • 印制电路板设计教程
    • 印制电路板设计教程
    • 刘益标,王艳芬主编/2024-12-1/东南大学出版社
    • 随着电子技术的快速发展,大规模、超大规模集成电路的制造及应用使得电路板的制造工艺日趋精密和复杂,传统的设计手段和软件已不能适应这种发展需求。以AltiumDesigner系列软件易学易用、布线功能强大,被广泛应用于印制电路板设计中。本书采用任务驱动式的编写方法,用实例介绍电路原理图设计,原理图元件制作与使用,印制电路板

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      定价:¥48  ISBN:9787576618792
  •  集成电路物理基础
    • 集成电路物理基础
    • 宋建军/2024-12-1/西安电子科技大学出版社
    • 本书重点讲授与集成电路半导体和器件相关的基础物理知识。熟练掌握本书的知识体系,可为后续半导体物理和半导体器件物理两门专业核心课程的学习奠定必要的理论基础。全书共分为13章,包含微观粒子的波粒二象性,状态与波函数,定态薛定谔方程的应用,力学量与算符,表象理论,微扰理论,晶体结构的描述,初识半导体单晶能带结构,半导体单晶仅

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      定价:¥28  ISBN:9787560677842
  •  集成电路封装技术
    • 集成电路封装技术
    • 卢静/2024-12-1/西安电子科技大学出版社
    • 本书是按照理论够用、突出实践、任务驱动、理实一体的原则编写而成的。书中以集成电路芯片封装工艺流程为主线,以真实项目为载体,每个项目以任务实施为导向,设置任务目标、任务准备、任务资讯、课程思政、任务实施和任务习题六个环节。 本书共五个项目。项目一为封装产业调研,包括封装的概念、技术领域、功能、历史及现状和国内产业状况等内

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      定价:¥59  ISBN:9787560677231
  •  微纳集成电路工艺技术
    • 微纳集成电路工艺技术
    • 戴显英/2024-12-1/西安电子科技大学出版社
    • 本书共10章。第1章介绍集成电路工艺的器件与工艺仿真基础,第2章至第7章介绍集成电路制造的薄膜制备、离子注入、光刻、刻蚀、金属化、化学机械平坦化等基本工艺,第8章介绍阱工艺、浅槽隔离工艺、栅极工艺、源漏工艺、自对准金属硅化物工艺、接触孔与通孔工艺和金属互连工艺等集成电路制造的工艺集成技术,第9章至第10章介绍先进封装工

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      定价:¥36  ISBN:9787560677774
  • 微纳集成电路制造工艺
    • 微纳集成电路制造工艺
    • 戴显英主编/2024-12-1/高等教育出版社
    • 本教材共五篇23章。第一篇介绍集成电路制造的器件基础,包括MOSFET器件、功率器件、逻辑芯片和存储芯片;第二篇介绍集成电路制造的工艺设计基础,包括工艺设计套件(PDK)、光刻掩模版技术、光学临近修正和集成电路工艺及器件仿真工具TCAD;第三篇介绍集成电路制造基本工艺,包括光刻、刻蚀、薄膜、掺杂、离子注入和清洗;第四篇

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      定价:¥36.3  ISBN:9787040640380
  • 聚焦离子束:失效分析
    • 聚焦离子束:失效分析
    • 邓昱,陈振,汪林俊,王英,邹永纯/2024-12-1/南京大学出版社
    • 聚焦离子束(FocusedIonBeam,FIB)是微纳材料芯片失效分析的核心技术装备之一。随着材料、器件的微尺度化(纳米甚至原子尺度)、高集成化(每平方厘米集成10亿个以上的功能单元)、多功能化(在多种外场条件下工作),越来越多的材料微结构研究、器件研发涉及聚焦离子束。本书从聚焦离子束的结构原理出发,紧密联系应用与实

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      定价:¥68  ISBN:9787305284960
  • 集成电路导论
    • 集成电路导论
    • 孙肖子主编;潘伟涛等编著/2024-12-1/高等教育出版社
    • 本书主要面向电子信息类非微电子专业学生的入门性质的课程,书中将从电子系统设计者的视角,介绍集成电路全产业链各个环节的基本原理和设计基础。本书被列入集成电路新兴领域“十四五”高等教育教材。全书内容包括:绪论、集成电路制造工艺基础及版图设计、集成电路中的元器件、模拟集成电路设计—信号链与电源管理、数字集成电路设计—单元电路

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      定价:¥60  ISBN:9787040633979